美國ENTEGRIS英特格產(chǎn)品和解決方案包括：
凈化氣體、流體和周圍工廠環(huán)境的過濾產(chǎn)品
分配、控制、分析或運輸過程流體的液體系統(tǒng)和組件
安全儲存和輸送有毒氣體的氣體輸送系統(tǒng)
用于先進節(jié)點沉積和清潔的特殊化學(xué)品
 
保護半導(dǎo)體晶圓免受污染和破損的晶圓載體和托運人
提供高純度表面以實現(xiàn)耐磨、防腐蝕和光滑的特種涂層
用于高性能應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)石墨和碳化硅
用于保護和運輸磁盤驅(qū)動器組件的托運人和托盤。公司情況說明書
致力于通過廣泛的解決方案組合、協(xié)作和創(chuàng)新的產(chǎn)品開發(fā)以及對科學(xué)和應(yīng)用知識的關(guān)注來解決客戶最苛刻的工藝挑戰(zhàn)。
Chambergard  氣體擴散器
快速排氣擴散器，不會在工藝室中引入或干擾顆粒。
Chambergard  快速排氣擴散器可快速排氣至大氣，而不會干擾或向腔室中的晶片添加顆粒，通過最大限度地減少負載鎖定排氣循環(huán)時間來提高系統(tǒng)吞吐量。它們將擴散器的流動特性與高效過濾器相結(jié)合，以提高效率和吞吐量。
 Chambergard  FV50D XL 氣體擴散器
Chambergard FV50 氣體擴散器可快速減少負載鎖定和傳輸室中的顆粒和排氣時間，并具有高效且堅固的鎳盤膜。
入口連接
1/4" VCR  兼容公墊圈密封接頭
插座連接
ISO NW50 隔板安裝與標準 ISO 隔板夾兼容
行業(yè)
半導(dǎo)體 平板顯示器 數(shù)據(jù)存儲 引領(lǐng)
過程
散裝氣體輸送 沉積 干蝕刻 離子注入
Chambergard  快速排氣擴散器
Chambergard  快速排氣擴散器可減少負載鎖定和傳輸室中的顆粒和排氣時間。實現(xiàn)快速排氣，而不會干擾或向晶片添加顆粒。
行業(yè)
半導(dǎo)體 平板顯示器 數(shù)據(jù)存儲 引領(lǐng)
過程
散裝氣體輸送 沉積 干蝕刻 離子注入
Chambergard  BGN 快速排氣擴散器
Chambergard  BGN 快速排氣擴散器可提供高通量和快速排氣到大氣。獲得專利的燒結(jié)鎳濾芯可快速擴散進入的氣流。
入口連接
密封墊片 對接焊縫
插座連接
ISO NW 隔板安裝兼容真空法蘭 無（無法蘭）
行業(yè)
半導(dǎo)體 平板顯示器 數(shù)據(jù)存儲 引領(lǐng)
過程
散裝氣體輸送 沉積 干蝕刻 離子注入
 

通過減少負載鎖定和傳輸室中的顆粒和排氣時間來提高效率和吞吐量。

獲得專利的燒結(jié)鎳技術(shù)可在所有應(yīng)用中提供卓越的性能
設(shè)計能夠從進入的氣體中去除大于 0.0015 µm 的顆粒，從而最大限度地減少晶圓缺陷
提供快速排氣，而不會干擾或向晶圓添加顆粒，減少循環(huán)時間，同時提高產(chǎn)量
將擴散器的流動特性與高效過濾器相結(jié)合，以提高效率和吞吐量
易于改裝/安裝到現(xiàn)有工具中，最大限度地減少停機時間。
WG3D16TR2
WG3D228R2    
WG3D25LR2
WG3D25SR2    
WG3D350R2    
WG3D35BW2
WG3D3LBW2
WG3D401R2
WG3D40DR2    
WG3D40TR2    
WG3D50DR2