Fluorogard??AT?過(guò)濾器
在大于?65?nm?的技術(shù)節(jié)點(diǎn)中清潔、經(jīng)濟(jì)高效地過(guò)濾非除氣、水性、酸和堿化學(xué)物質(zhì)或高級(jí)溶劑應(yīng)用。
?應(yīng)用
Fluorogard??AT?過(guò)濾器應(yīng)用
行業(yè)：半導(dǎo)體（濕法蝕刻和清潔、散裝化學(xué)品輸送）、生命科學(xué)（凈化）、平板顯示器（有機(jī)層印刷）
化學(xué)：腐蝕性酸、腐蝕性堿、溶劑
安裝：工具點(diǎn)，散裝
產(chǎn)品規(guī)格
? ? 在 ATX 吃 AT3
材料： 膜： 疏水性聚四氟乙烯 ? ? ?
? 支撐、套筒、端蓋、芯 粉煤灰 ? ? ?
? 濾芯?O?型圈選項(xiàng) E-FKM、E-ETP、Chemraz 、Kazlrez 、FER ? ? ?
保留率（見(jiàn)注1）： ? 0.05、0.1、0.2、0.5、1.0、5.0、10.0?μm（見(jiàn)注?2） 15、20?nm、0.03、0.05、0.1?μm
UCM?選項(xiàng)：15、20?nm（見(jiàn)注?2）? 15、20?nm、0.03、0.05、0.1?μm
UCM?選項(xiàng)：15、20?nm（見(jiàn)注?2） UCM?選項(xiàng)：15?納米
膜面積： 4" 0.36?平方米（3.88?平方英尺） 0.5?平方米（5.38?平方英尺） 2.2?平方米（23.86?平方英尺） ?
? 10" 0.9?平方米（9.68?平方英尺） 1.3?平方米（13.99?平方英尺） (15?納米/20?納米)?2.1?平方米?(22.6?平方英尺) 2.8?平方米（30.14?平方英尺）
? 20" 1.8?平方米（19.38?平方英尺） 2.6?平方米（27.99?平方英尺） 4.4?平方米（47.36?平方英尺） ?
? 30" 2.7?平方米（29.06?平方英尺） ? ? ?
顆粒清潔度 ? 以?3-5?L/min?沖洗?5?分鐘后?≤?50?個(gè)顆粒/10?mL?(≥?0.05?μm/10?mL) ? ? ?
金屬萃取物： 墨盒 標(biāo)準(zhǔn)?<40?μg?每臺(tái)設(shè)備 ? ? ?
? UCM?<10?μg?每臺(tái)設(shè)備 ? ? ?
? 一次性的 標(biāo)準(zhǔn)?<10?μg?每臺(tái)設(shè)備 ? ? ?
? UCM?<3?μg?每臺(tái)設(shè)備 ? ? ?
? ? 墨盒 一次性的 一次性（管式）
運(yùn)行條件 最大工作壓力 0.58?MPa?(5.8?bar,?84?psi)?@?25°C?(77°F) 0.58?MPa?(5.8?bar,?84?psi)?@?25°C?(77°F) 0.58?MPa?(5.8?bar,?84?psi)?@?25°C?(77°F)
? 最大正向壓差 0.44?MPa?(4.4?bar,?64?psi)?@?25°C?(77°F) 0.44?MPa?(4.4?bar,?64?psi)?@?25°C?(77°F) 0.44?MPa?(4.4?bar,?64?psi)?@?25°C?(77°F)
? ? 0.05?MPa?(0.5?bar,?7.5?psi?@?180°C?(356°F) 0.05?MPa?(0.5?bar,?7.5?psi?@?180°C?(356°F) 0.05?MPa?(0.5?bar,?7.5?psi?@?150°C?(302°F)
? 最大反向壓差 0.34?MPa?(3.45?bar,?50?psi?@?25°C?(77°F) 0.34?MPa?(3.45?bar,?50?psi?@?25°C?(77°F) 0.34?MPa?(3.45?bar,?50?psi?@?25°C?(77°F)
? 最高工作溫度 180°C?(356°F) 180°C?(356°F) 150°C?(302°F)
? ? ? Flowell??60?系列一次性 100°C?(212°F)
注?1：0.03?μm、15?nm?和?20?nm?的保留等級(jí)作為?UCM?產(chǎn)品用于溶劑過(guò)濾?-?無(wú)預(yù)濕選項(xiàng)。
注?2：預(yù)濕選項(xiàng)在?0.05?μm?和?1?μm?之間可用。?

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